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等離子體刻蝕終點檢測儀
The IMP-EPD is a differentially pumped, ruggedised secondary ion mass spectrometer for the analysis of secondary ions and neutrals from the ion beam etch process.

IMP離子蝕刻探針(Ion Milling Probe),自帶差式泵,堅固的二次離子質譜儀,適于分析離子蝕刻過程中的二次離子和中性粒子。獨有的專業終點檢測(End Point Detection)儀器,用于離子蝕刻控制以及過程質量最優化監測。

 

·差式泵歧管,經連接法蘭,接到過程室
·離子光學器件,帶能量分析器和內置離子源
·Penning規和互鎖裝置,以提供過壓保護
·數據系統與過程控制工具整合

 

·高靈敏度的 SIMS / MS,帶脈沖離子計數檢測器
·三級過濾四極桿,標準配置質量數為300amu
·穩定性(24h以上,峰高變化小于 ±0.5%)
·通過 RS232RS485或以太網, 軟件MASsoft控制
·程控DDE, 平行數字式I/ORS232通訊

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